9月29日，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司（以下简称“捷佳伟创”）发布公告称，拟向不超过35名（含）符合中国证监会规定条件的特定投资者发行股票。

6.5亿元，实施先进半导体装备项目

公告显示，捷佳伟创本次拟募集资金总额不超过25.03亿元（含本数），扣除发行费用后拟将全部用于超高效太阳能(4.660, 0.34, 7.87%)电池装备产业化项目、泛半导体装备产业化项目、二合一透明导电膜设备（PAR）产业化项目、先进半导体装备（半导体清洗设备及炉管类设备）研发项目、以及补充流动资金项目。

其中，先进半导体装备（半导体清洗设备及炉管类设备）研发项目计划投资约2.5亿元，拟在深圳市坪山区实施Cassette-Less刻蚀设备和单晶圆清洗设备技术的改进与研发，立式炉管长压化学气相沉积设备、立式炉管低压化学气相沉积设备、立式炉管低压原子气相沉积设备以及立式炉管HK ALO/HFO2工艺设备技术的改进与研发。

通过该项目的建设，捷佳伟创将加大对国际先进工艺的研究、对半导体先进设备的测试、加快全覆盖率的设备产出，实现技术与产业升级。

第一，改进半导体气相沉积设备技术。公司将进一步加快28纳米到0.35微米集成电路设备的验证与产业化以及未来纳米设备的核心技术研发，大大增强先进集成电路、先进封装及第三代半导体工艺装备竞争能力；同时也将提升先进精密模组及元器件的生产能力，自主研发立式气相沉积设备。

第二，在湿法清洗设备领域，完成Cassette-less批次式清洗工艺设备、单晶圆腔体清洗设备、涂布显影的单晶圆设备，长压及低压化学气相沉积设备与低压原子气相沉积设备等世界领先技术的研发并投产，实现湿法清洗设备的规模化生产，构建层次丰富、产能高效的半导体湿法及气相沉积设备供给线。

公告指出，捷佳伟创计划提高在半导体工艺设备业务的国内市场份额，因此亟需加强对湿法及气相沉积工艺设备的研发力度、加大研发投入，抓住技术更新、产业工艺和产能升级等市场机遇。而该项目的建设有利于巩固公司在湿法及气相沉积工艺产品的领先地位，使公司快速进入国产集成电路工艺装备的国际化队伍。

拓展业务布局，助力半导体设备国产化

资料显示，捷佳伟创成立于2007年，是一家高速发展的新能源装备研发制造企业，主要为太阳能光伏产业链中的中间环节晶硅太阳能电池生产提供工艺流程中的关键设备。

自成立以来，该公司已为全球200多家光伏电池生产企业，近1000条电池生产线提供设备和服务，其中各类工艺设备的市场占有率均超过50%，成为全球领先的晶体硅太阳能电池设备供应商。

目前，捷佳伟创已经积累了一批高端客户和合作伙伴，且基本为行业内的重要企业，如阿特斯、天合光能(16.620, 0.64, 4.01%)、隆基股份(75.710, 0.62, 0.83%)、晶科能源等。

不过近年来，为积极响应国家政策，助力半导体行业国产化，捷佳伟创开始逐渐涉足半导体领域。

2019年，为拓展公司战略规划和产业布局，捷佳伟创开始投身于国产集成电路工艺设备事业，并启动了湿法工艺装备研发。

2020年，该公司再次成立独立的半导体研发事业部，立足设备行业，切入半导体工艺设备，致力打造高端半导体设备，制造开发平台，目前该公司已经完成Dryer平台的开发、部分槽体的开发和部分模组的开发，供应链的体系逐步开始建立。

目前，捷佳伟创的主营业务和产品包括PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、丝网印刷、自动化配套设备等晶硅太阳能电池生产工艺流程中的主要设备的研发、制造和销售以及半导体清洗设备。

捷佳伟创表示，先进半导体装备研发项目将利用现有研发体系与资源，开展半导体刻蚀清洗设备、半导体晶圆涂布显影设备、气相沉积设备等高端工艺设备研发创新, 从而扩展和建立半导体湿法和气相沉积设备前后道工艺的产品线及工艺整合开发服务, 实现公司在半导体事业拓展的战略规划与产业布局。